AVALIAÇÃO DA RESISTÊNCIA COESIVA DE RESINA COMPOSTA POLIMERIZADA COM DIFERENTES MÉTODOS E FONTES DE LUZ

Revista de Iniciação Científica da Universidade Vale do Rio Verde

Endereço:
Rua Capri, nº 251 - Arquipélago Verde
/ MG
32553-140
Site: http://revistas.unincor.br/index.php/iniciacaocientifica/
Telefone: 3135116515
ISSN: 2238-5266
Editor Chefe: Sérgio Ricardo Magalhães
Início Publicação: 31/10/2011
Periodicidade: Semestral
Área de Estudo: Multidisciplinar

AVALIAÇÃO DA RESISTÊNCIA COESIVA DE RESINA COMPOSTA POLIMERIZADA COM DIFERENTES MÉTODOS E FONTES DE LUZ

Ano: 2011 | Volume: 1 | Número: 1
Autores: Andrezza Carolina Dias CARDOSO, Saulo Galvão dos SANTOS, Alexandre Tourino MENDONÇA, José Carlos Rabelo RIBEIRO, Marcos Ribeiro MOYSÉS
Autor Correspondente: Andrezza Carolina Dias CARDOSO | [email protected]

Palavras-chave: Resinas compostas; Fotopolimerização; Teste de materiais

Resumos Cadastrados

Resumo Português:

As resinas compostas são utilizadas para substituir a estrutura dentária perdida e manter a cor
e o contorno dos dentes, melhorando assim a estética. A crescente demanda por restaurações
estéticas e a constante busca por um material que seja adesivo, biocompatível e que
restabeleça as funções básicas dos dentes têm despertado interesse nas indústrias e
estimulado os profissionais da área odontológica. Objetivou-se, então, avaliar, através de
ensaio mecânico de microtração, a resistência adesiva de resina composta, polimerizada com
diferentes aparelhos fotopolimerizadores (LED e Halógeno), e diferentes métodos de
polimerização (Convencional Led - CL, Convencional - C, Pulso - P e Gradual - G). Foram
utilizadas as resinas compostas Charisma (Heraeus Kulser, Weihrheim, Germany) e Filtek
Z350 (3M ESPE, St. Paul, MN, USA) e para realização da fotopolimerização, os aparelhos
Halógeno - Demetron Optilux 401 (Demetron/Kerr – Danbury ST USA) e Led - LED Elipar
FreeLight 2 (3M Espe). Foram confeccionados 80 corpos de prova (CPs), com dimensões de
1x1x10mm, utilizando-se uma matriz de aço inoxidável bipartida, onde a resina foi inserida em
incremento único e fotopolimerizadas de acordo com as recomendações do fabricante. Os
corpos de prova foram divididos em 8 grupos (n=10). Para a realização do ensaio mecânico de
microtração, utilizou-se a Máquina de Ensaios Mecânicos Universal EMIC DL 2000 (EMIC, São
José dos Pinhais, Paraná, Brasil), com célula de carga de 2000 kgf, com velocidade do atuador
de 0,5 mm/min. Os corpos de prova foram fixados no dispositivo de microtração com o auxílio
de cianoacrilato. Os resultados obtidos da tensão de microtração (MPa), foram submetidos à
análise de variância e teste de Tukey (p<0,05). As médias foram para Charisma: CL (44,420
±4,021), C (39,600±2,917), G (38,320±3,449), P (39,640±3,218) e para Z350: CL
(50,150±4,359), C (45,270±3,976), G (43,810±3,612), P (49,140±3,668). De acordo com a
metodologia utilizada, pôde-se concluir que não houve diferença estatística entre os métodos
de fotopolimerização entre a mesma resina, entretanto, a resina Filtek Z350 apresentou
tendência a valores superiores de resistência coesiva sobre a resina Charisma.